Dienstag, den 13. Juli 2021
- Starke Performance: DS Techeetah mit zwei Podestplätzen bei WM-Läufen in New York
- In Lauerstellung: Zweiter Platz in Fahrer- und Teamwertung
- Spannung pur: Doppelläufe in London und Berlin bringen die Titel-Entscheidungen
Rüsselsheim. Zwei Rennen, zwei Podestplatzierungen am vergangenen Wochenende für DS Techeetah in New York: Nach einem hervorragenden zweiten Platz für Jean-Éric Vergne am Samstag freute sich das Team am Sonntag über einen starken dritten Rang von António Félix da Costa. Mit den gewonnenen Punkten bleibt DS Techeetah vor den letzten beiden Stationen in London und Berlin als Zweiter aussichtsreich positioniert in Fahrer- und Teamwertung.
Das Wochenende startete optimal für Jean-Éric Vergne. Sein DS E-TENSE FE21 zeigte am Samstag sofort eine gute Pace auf dem 2,320 km langen Rundkurs in Brooklyn, der nach den Regenfällen des Vorabends feucht und schmierig war. Dank der zweitschnellsten Rundenzeit in der Super Pole-Session sicherte sich der französische DS Techeetah Pilot einen Platz in der ersten Startreihe. Diese Position behielt Jean-Éric Vergne während des gesamten Rennens und war damit Teil eines Fahrerquartetts, dass um die Spitzenplätze kämpfte. Nach einem erfolgreichen Angriff auf den Führenden in der Schlussphase des Rennens, musste er jedoch Maximilian Günther noch passieren lassen und beendete das Rennen als Zweiter.
Weniger erfolgreiche startete das Wochenende für António Félix da Costa. Von Startplatz 13 aus hatte er ein kompliziertes Rennen, auf einer Strecke, die das Überholen schwierig machte. Darüber hinaus wurde der amtierende Champion bereits in der ersten Runde von hinten getroffen und konnte sich nicht aus der Gruppe im Mittelfeld befreien. Schließlich überquerte er die Ziellinie als Zwölfter.
Ganz anders gestaltete sich das zweite Rennen am Sonntag. In einem lebhaften und eng umkämpften Rennen fuhr der amtierende Champion António Félix da Costa dank einer starken Leistung vom siebten Platz in der Startaufstellung aufs Podest vor. Da Costa hielt sich in der Anfangsphase zunächst auf der sechsten Position, inmitten einer Gruppe, die während des gesamten Rennens um jede Position hart kämpfte. Der frühe und perfekte Einsatz der Angriffsmodi ermöglichte es ihm, auf den vierten Platz zu klettern, bevor er in den letzten Runden einen Zweikampf gewann, der ihm den dritten Platz und damit das Podium sicherte.
Auch in Runde elf der ABB FIA Formel-E-Weltmeisterschaft wurden die Karten in der Fahrer- und Teamwertung daher neu gemischt. Als Zweiter ist António Félix da Costa nun nur noch fünf Punkte vom Führenden entfernt, während Vergne als Sechster 13 Punkte zurückliegt und ebenfalls alle Chancen aufrechterhalten konnte. In der Teamwertung ist DS Techeetah weiterhin Zweiter, zwei Punkte hinter der Spitze. Bei noch vier ausstehenden Rennen bleibt es spannend und der Ausgang der 7. Formel E Saison ist völlig unvorhersehbar.
António Félix da Costa:
„Podium in Amerika! Es ist schön, dieses Wochenende mit einem guten Ergebnis abzuschließen. Ich kam von Platz sieben und kämpfte mich durch das Feld, um schließlich das Podium zu erreichen und in der Gesamtwertung wieder Zweiter zu sein. Der Kampf wird bis zum Ende weitergehen. Nach dem ersten Rennen am Samstag haben wir mit den Ingenieuren und den Mechanikern sehr hart gearbeitet, um das Auto zu verbessern ? was für eine tolle Teamleistung!“
Jean-Éric Vergne:
„Ich bin sehr zufrieden mit den wertvollen Punkten, die ich am Samstag gesammelt habe. Sie erlauben mir, wieder in den Kampf um die Meisterschaft einzusteigen. Sonntag war kein guter Tag für mich. Nach dem Erfolg am Samstag konnte ich mich gestern wegen eines Problems an der Elektronik nicht qualifizieren und das Rennen nicht starten. Aber wir haben ein sehr starkes Auto. In den vier noch anstehenden Rennen ist also alles möglich. Wir müssen jetzt einfach weitermachen und bereit sein, in London zurückzuschlagen.“
Mark Preston, Teamchef DS Techeetah:
„Wir beenden ein großartiges Wochenende mit einem Podium für JEV und einem zweiten für António. Wir nehmen das Momentum mit in Richtung der letzten Rennen. Jedes Wochenende Punkte mit nach Hause zu nehmen, wird der Schlüssel zum Erfolg in dieser Meisterschaft sein, und sowohl António als auch JEV liefern, wenn es nötig ist. Es wird ein harter Kampf in der Meisterschaft werden, aber wir sind bereit für die Herausforderung!“
Thomas Chevaucher, Direktor DS Performance:
„Wir verlassen New York mit zwei Podiumsplatzierungen ? eine pro Fahrer ? was sehr positiv ist! Der DS E-TENSE FE21 war das ganze Wochenende über sehr schnell, aber wir hatten am Sonntag zwei technische Probleme am Auto von JEV. Die Formel E ist eine sehr anspruchsvolle Meisterschaft, in der Kleinigkeiten entscheidend sind. Die Abstände in der Gesamtwertung bleiben sehr gering und wir sind noch im Rennen um die Titel in Team- und Fahrerwertung. Der Kampf wird bis zum Schluss weitergehen und wir sind bereit, ihn in zwei Wochen in London fortzusetzen.“
